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单层锡烯等离激元激发研究

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AI 综述

兰州大学团队在arXiv发表研究,采用含自旋轨道耦合的sp3紧束缚模型,结合有限温度多带Lindhard函数与随机相位近似,系统研究单层锡烯的高能与低能等离激元结构。研究发现,除graphene/silicene中已知的π和π+σ等离激元外,锡烯还支持两个新的高能等离激元分支;静电掺杂与垂直电场可在0.3 V/Å以下连续调控低能等离激元,使其覆盖太赫兹至中红外频段。

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报道时间线

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11月10日
  1. arXiv cond-mat.mes-hall(介观与输运)
    单层锡烯的等离激元激发研究

    兰州大学团队用含自旋轨道耦合的 sp3 紧束缚模型结合有限温度多带 Lindhard 函数与随机相位近似,系统研究了单层锡烯的高能与低能等离激元结构。除 graphene/silicene 已知的 π 和 π+σ 等离激元外,锡烯还支持两个新的高能等离激元分支;静电掺杂与垂直电场可在 0.3 V/Å 以下连续调控低能等离激元,覆盖太赫兹至中红外频段。

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