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层状铜氧化物本征 Josephson 结 I-V 特性综述发布
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AI 综述
2026年11月10日，俄罗斯科学院乌拉尔分院金属物理研究所团队在 arXiv（cond-mat.supr-con）发布综述，梳理高度各向异性铜氧化物超导体 c 方向电流-电压（I-V）特性的研究结果。综述分析了空穴掺杂与电子掺杂（如 Nd2-xCexCuO4）铜氧化物的多分支 I-V 特性，将其视为由 CuO2 层充当超导板、缓冲层充当介质层的本征 Josephson 结堆叠结构。
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最新进展11月10日 13:00
乌拉尔分院金属物理所团队发布铜氧化物本征 Josephson 结 I-V 特性综述。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
11月10日
- arXiv cond-mat.supr-con（超导）层状铜氧化物超导体本征 Josephson 结的电流-电压特性综述
俄罗斯科学院乌拉尔分院金属物理研究所（M.N. Mikheev Institute of Metal Physics）团队综述了高度各向异性铜氧化物超导体 c 方向电流-电压特性的研究结果，分析了空穴掺杂与电子掺杂（如 Nd2-xCexCuO4）铜氧化物的多分支电流-电压特性，将其视为 CuO2 层作超导板、缓冲层作介质层的本征 Josephson 结堆叠。
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