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扭转铜氧化物双层中反铁磁与拓扑s+d+id超导共存
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AI 综述
2026-11-09,arXiv cond-mat.str-el(强关联电子)刊出一篇论文,研究扭转铜氧化物双层中的反铁磁与拓扑超导共存问题。论文在t-t′-t⟂-J-J⟂微观模型框架下,采用含反铁磁序的扩展Gutzwiller波函数近似,对扭转铜氧化物双层进行求解。结果显示,θ∼45°的扭转可诱导出拓扑s+d+id超导;在低空穴掺杂δ≲0.15−0.16区间,该超导与反铁磁序稳健共存;在过掺杂区,于现实层间耦合条件下仍可实现这种共存。目前仅有这一篇报道,尚无后续进展。
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最新进展11月9日 13:00
arXiv刊出论文,报告θ∼45°扭转铜氧化物双层中反铁磁与拓扑s+d+id超导在低掺杂下稳健共存。报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
11月9日
- arXiv cond-mat.str-el(强关联电子)扭转铜氧化物双层中反铁磁与拓扑s+d+id超导共存
论文在t-t′-t⟂-J-J⟂微观模型中用含反铁磁序的扩展Gutzwiller波函数近似求解扭转铜氧化物双层,发现θ∼45°扭转诱导拓扑s+d+id超导,在低空穴掺杂δ≲0.15−0.16下与反铁磁序稳健共存,并在过掺杂区于现实层间耦合下仍可实现。
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