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最宽带隙半导体首次制成可用晶体管
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AI 综述
Cornell University 研究团队在 Nature 发表研究,研制出带隙超过 7 eV 的半导体材料,为硅掺杂铝镓氧化物在蓝宝石上生长而成,打破了此前 6 eV 的纪录,并据此制成晶体管,为超宽带隙半导体器件研究带来新进展。
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最新进展11月5日 23:25
Cornell 团队在 Nature 发表研究,制成带隙超 7 eV 的超宽带隙半导体晶体管,打破 6 eV 纪录。报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
11月5日
- Interesting EngineeringCornell 团队研制出带隙超 7 eV 的超宽带隙半导体并制成晶体管
Cornell University 研究团队在 Nature 发表研究,研制出带隙超过 7 eV 的半导体材料,为硅掺杂铝镓氧化物在蓝宝石上生长而成,打破了此前 6 eV 的纪录。
本事件热度走势
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