硅中空气孔实现325纳米紫外平面聚焦镜

2026-11-07，Phys.org 报道斯图加特大学研究团队在 Advanced Photonics 发表研究，通过在硅中刻蚀椭圆形空气腔（Mie voids）制成反射式超表面，把光限制在吸收可忽略的空气腔内，从而避开硅在紫外波段的强吸收问题，实现325 nm紫外平面聚焦反射镜。这是目前关于该事件的唯一报道，尚无早先报道可供对照。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。